南大光電：缺陷檢測設(shè)備對28nm以下制程芯片用光刻膠的檢測有重要作用

每經(jīng)AI快訊，有投資者在投資者互動(dòng)平臺(tái)提問：11月18日，你回復(fù)說“缺陷檢測設(shè)備尚未完成采購”，12月2日，你回復(fù)說“缺陷檢測設(shè)備主要針對28nm以下，而公司的ArF膠聚焦28-90nm，檢測設(shè)備如光刻機(jī)已正常投入使用” 請問，目前正常使用的光刻機(jī)是什么時(shí)候采購的？缺陷檢測設(shè)備既不是目前主要攻關(guān)課題，為何要抓緊采購？

南大光電（300346.SZ）2月3日在投資者互動(dòng)平臺(tái)表示，光刻機(jī)于2020年上半年采購進(jìn)廠。 缺陷檢測設(shè)備對28nm以下制程芯片用光刻膠的檢測有重要作用。

(記者 畢陸名)

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